用于反射薄膜生产等的自动溅射仪SC-701AT介绍

发布日期：2024-12-24      浏览次数：7

用于反射薄膜生产等的自动溅射仪SC-701AT介绍

只需设置样品并等待即可。全自动溅射，膜厚可调。



 离子溅射是将靶材、样品均置于真空室中；首先进行抽真空，实现辉光放电所需的低气压环境；靶材接高压，为负极；样品台接地，为正极；靶材与样品台之间形成高压电场，电离气体；气体电离后，正离子飞向负极，轰击靶材，靶材原子被溅射飞出，沉积到样品上形成导电膜。

特征

• 从排气→镀膜（蚀刻）→大气释放全自动

• 虽然是紧凑型，但可以控制膜厚（简易型）。

• 全自动溅射设备，操作简单，重现性高

• 配备镀膜/蚀刻模式

用途和结果示例

• 将电极膜粘贴到各种设备上

• 用于反射薄膜生产等。

基本规格

阴极	φ2 英寸/2 极对置电极
溅射靶材	单独出售 Au/Pt/Pd/Ag/Au-Pd/Pt-Pd
蚀刻目标	包括 Al 目标
膜厚设定方法	预设方式/带数显膜厚监测仪
气体导入机构	针阀
真空泵	直连旋转泵：20l/min（带自动泄漏）
排气操作	自动的
腔室尺寸	内径 φ120mm x D120mm（SUS材质）
样品交换方式	前门开闭方式
尺寸（宽/深/高）	机身：225/420/320mm RP：300/160/200mm
重量	本体：15kg RP：9kg